검색으로 돌아가기
기록
半导体结构
발명유효
20청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
杜铭祥; 蔡明桦; 陈俊霖; 郑竣文; 黄雅歆; 杨咏方
IPC 분류
H10D 84/83 (2025.01)H10D 30/62 (2025.01)H10D 30/65 (2025.01)
本发明公开一种半导体结构,其中该半导体结构包含基底,具有多个鳍片;第一阱和第二阱,设置在基底中,多个鳍片与第一阱部分重叠并且与第二阱部分重叠;外延源极区,设置在第一阱内的多个鳍片上;外延漏极区,设置在第二阱内的多个鳍片上;栅极,设置在外延源极区和外延漏极区之间的多个鳍片上;沟槽隔离区,设置在栅极和外延漏极区之间的第二阱内;以及狭槽接触,设置在沟槽隔离区上。