一种阵列量子点薄膜及其制备方法、应用

本发明属于光电探测器制造技术领域，公开了一种阵列量子点薄膜及其制备方法、应用。所述量子点薄膜的制备方法包括：于基底上沉积绝缘层，于绝缘层表面形成具有孔洞阵列结构的光刻胶层，得到刻蚀孔，于刻蚀孔中依次沉积金属层和空穴传输层，然后去除孔洞阵列结构，放置掩膜版后喷墨打印量子点墨水，再移开掩膜版，依次于绝缘层表面沉积保护层、氧化锌层和ITO层。结合孔洞阵列结构和量子点喷墨工艺，实现微米级精度的量子点图案化，并且控制单个孔洞阵列结构中的量子点层厚度一致，量子点分布均匀，提高高密度像素化器件的产品质量。