处理装置和处理方法

本公开提供一种处理装置和处理方法，能够使热历程的减少与处理气体的反应性的提高两立。本公开的一个方式的处理装置具备：处理容器，在该处理容器形成有用于对多张基板进行处理的处理空间；等离子体生成部，在该等离子体生成部形成有与所述处理空间连通并用于生成等离子体的等离子体生成空间；第一气体喷嘴，其向所述处理空间供给第一处理气体；以及第二气体喷嘴，其向所述等离子体生成空间供给第二处理气体，所述第二气体喷嘴具有气体加热部，所述气体加热部在所述第二气体喷嘴内加热所述第二处理气体。