PVA光学膜及其制备方法和高透高偏振偏光片

本发明公开了一种PVA光学膜及其制备方法和高透高偏振偏光片，属于PVA光学膜制造技术领域。本发明通过控制PVA光学膜的面内折射率差⊿N为1×10~20×10，平衡溶胀度为180%～220%、平均溶胀速率为90%/min～110%/min，使PVA光学膜具有预取向分子链结构并增加晶体物理缠结点，与提高PVA光学膜分子量的方法相比，本发明的PVA光学膜在制备偏光片的下游拉伸过程中，可以形成更多的取向聚碘离子，增加取向聚碘离子的数量，降低无规分子链含量，减少因为分子链运动导致的取向松弛，从而能够同时极大地提高偏振片的偏振度及透过率。