CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

一种用于镀膜舱室供应特气的供气装置

발명유효
7조회수
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

刘国利; 张展荣; 杨丹; 徐欣洋; 欧阳杰; 李国强

IPC 분류

F17D 1/02 (2006.01)F17D 3/01 (2006.01)F17D 5/00 (2006.01)

本发明涉及镀膜加工技术领域,且公开了一种用于镀膜舱室供应特气的供气装置,该装置主要由主特气柜、备用特气柜、预充式缓冲罐和气流分散组件组成,主特气柜和备用特气柜通过气动三通阀与预充式缓冲罐相连,形成双气源供气系统;当主特气柜压力不足时,气动三通阀自动切换至备用特气柜,在此过程中预充式缓冲罐会优先释放储存的高压气体,通过供气主管持续向镀膜舱室供气,完全避免了传统设计中因阀门切换导致的气压波动问题。预充式缓冲罐采用同轴双腔室设计,包括外层的高压腔和内层的稳压腔,高压腔与气动三通阀连接,稳压腔通过供气主管与镀膜舱室连通,稳压腔内设有环形金属隔离板,通过自动调节机构实现气压自动平衡。