一种在图形化衬底上制作光敏聚合物介质层的方法

本发明公开了一种在图形化衬底上制作光敏聚合物介质层的方法，包括：使用等离子体对衬底表面进行清洗，对清洗后的衬底进行烘烤；采用动态滴胶法涂覆光敏聚合物介质胶，在衬底高转速下开始匀速滴加光敏聚合物介质胶，持续滴胶至衬底低转速下旋转，停止滴胶后维持低转速匀胶至匀胶结束，对涂覆好的衬底进行软烘；使用紫外光配合图形化的掩膜版对衬底进行对准曝光；使用显影液对衬底进行显影，得到图形化介质胶层；在厌氧高温环境中对图形化介质胶层进行固化，得到图形化介质层。本发明能够解决传统静态涂覆的覆盖性问题，实现无气泡、高均匀性、高附着力的聚合物介质层制作。