CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

半导体加工设备

발명유효
17청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

田甲; 李兴存

IPC 분류

H01J 37/32 (2006.01)

本发明提供一种半导体加工设备,包括腔体、过滤组件、第一线圈、第二线圈、第一射频电源和第二射频电源,其中,过滤组件设置于腔体中,且将腔体内部分隔形成第一子腔和设置于第一子腔下方的第二子腔;过滤组件用于对流经的等离子体进行过滤,以使通过过滤组件的物质主要为自由基;第二子腔中设置有用于承载晶圆的基座;第一线圈和第二线圈均环绕腔体设置,且均位于过滤组件上方,并且第一线圈位于第二线圈上方,且与第一射频电源电连接;第二线圈与第二射频电源电连接。