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기록
半导体装置
발명유효
3조회수
20청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
朴俊赫; 黄仁俊
IPC 분류
H10D 84/82 (2025.01)H10D 62/85 (2025.01)H10D 89/00 (2025.01)H10D 30/47 (2025.01)
公开了包括主晶体管和子晶体管的半导体装置。主晶体管包括:主沟道层;主栅电极,位于主沟道层上;主栅极半导体层,位于主沟道层与主栅电极之间;源电极和漏电极,位于主栅电极的相对侧上并且连接到主沟道层;以及场分散层,位于主沟道层上,并且位于主栅电极与漏电极之间。子晶体管包括:子沟道层,包括具有二维电子气的漂移区域,并且包括与源电极连接的第一接触部分、与场分散层连接的第二接触部分、以及连接第一接触部分和第二接触部分的延伸部分;以及子栅电极,位于子沟道层的延伸部分上并且与主栅电极连接。