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기록

一种降低线列探测器形变应力的支撑台结构制备方法

발명유효
8청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

柴瑞青; 谢莉莉; 谢圣文; 孙启扬; 陈瑞明

IPC 분류

H10F 39/12 (2025.01)

一种降低线列探测器形变应力的支撑台结构制备方法,解决了现有Ⅱ类超晶格线列探测器公共电极沟槽存在高度差、倒装互连工艺困难、内部应力大的问题,属于红外探测器技术领域。制备方法包括:(1)清洗外延片;(2)使用PECVD方式,沉积SiO硬掩模;(3)光刻;(4)采用RIE反应离子刻蚀工艺,刻蚀SiO硬掩模;(5)去胶清洗;(6)使用ICP干法刻蚀;(7)将刻蚀好的外延片进行腐蚀、清洗,吹干;(8)使用RIE刻蚀残余SiO;(9)像元刻蚀,钝化开孔;(10)电极沉积。本发明设计降低了红外线列探测器芯片内部应力,公共电极槽附近像元受力更加均匀,提高探测器光电响应均匀性。