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用于分析电极表面的方法和系统

발명유효
1조회수
8청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

IPC 분류

G01N 21/88 (2006.01)G01N 21/94 (2006.01)G01N 21/25 (2006.01)H01M 4/04 (2006.01)

本公开涉及一种用于分析电极表面的方法和系统,并且更具体地涉及一种能够使用高光谱CCD精确地分析在电极制造过程期间残留在电极表面上的异物以提高过程效率和产品可靠性的用于分析电极表面的方法和系统。