基板处理方法、基板处理装置及硬掩模

提供可得到稳定蚀刻形状的基板处理方法、基板处理装置和硬掩模。一种基板处理方法，包括：准备具有含硅膜的基板的工序，以及通过溅射，在所述含硅膜上形成含钨、硅和氮的非晶膜即硬掩模的工序。