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用于烹饪器具的底座结构及烹饪器具

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§ Ⅰ

개요

발명자

莫仲钊; 杨蛟龙; 李铠洪; 覃德华; 苏美玲; 何孟宇; 杨泽宇

출원일

Aug 4, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

A47J 36/34 (2006.01)

本发明涉及烹饪器具技术领域,公开了用于烹饪器具的底座结构及烹饪器具,用于烹饪器具的底座结构包括真空发生装置和底座;真空发生装置包括吸附部、负压室和腔体分隔件;吸附部设置于底座的底部,用于将底座吸附至放置面;负压室设于底座的内部,并与吸附部连通,用于在吸附部处产生负压吸力;腔体分隔件可移动地设于负压室的内部,通过调节负压室有效负压空间,使吸附部对放置面产生负压吸力,或释放吸附部的负压吸力脱离放置面,本发明既能利用稳定的负压吸力,避免烹饪器具在湿滑放置面上滑动、开盖时因重心变化发生跳动位移,满足烹饪器具稳定固定,又能通过释放负压吸力实现烹饪器具便捷移动,满足烹饪器具稳定固定和便捷移动的双重需求。