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一种清洗碳化硅电极的方法及清洗设备
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§ Ⅰ
개요
발명자
李庆; 朱江林; 郑贤; 邓欣宇; 请求不公布姓名
출원일
Aug 19, 2026
공개일
Oct 16, 2026
IPC 분류
B08B 3/02 (2006.01)B08B 3/08 (2006.01)B08B 11/02 (2006.01)B08B 13/00 (2006.01)
一种清洗碳化硅电极的方法及清洗设备。清洗碳化硅电极的方法包括:利用含腐蚀剂的清洗液清洗竖直放置的具有多个贯穿孔的碳化硅电极,其中,所述贯穿孔沿所述碳化硅电极的轴向延伸,所述碳化硅电极的表面及形成所述贯穿孔的内壁上具有膜层;以及移动碳化硅电极,使碳化硅电极的表面与竖直方向存在夹角,利用含腐蚀剂的清洗液清洗碳化硅电极。由此,能够将碳化硅电极表面及贯穿孔内的膜层清洗干净。