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退镀剂用组合物、一种退镀方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

钟伟春; 吴星; 谢智锋; 孙志恒; 杨政奇

출원일

Aug 25, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

C03C 23/00 (2006.01)

本发明涉及镀层退镀技术领域,公开了退镀剂用组合物、一种退镀方法。该组合物中含有退镀组分和玻璃保护组分;所述玻璃保护组分包括第一保护剂和第二保护剂;所述第一保护剂为氮桥联多烷氧基硅烷;所述第二保护剂为烷醇胺硼酸酯。本发明提供的退镀剂用组合物解决了单一硅烷保护剂(如KH‑550)膜层存在缺陷、防护不彻底的通病,为高附加值微晶玻璃产品的加工降本增效提供了全新技术路径。