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기록
一种高性能碳化硅陶瓷及其制备方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C04B 35/565 (2006.01)C04B 35/622 (2006.01)
本发明公开了一种高性能碳化硅陶瓷及其制备方法。本发明碳化硅陶瓷的制备方法,包括如下步骤:S1、将包含碳化硅原料粉、有机粘结剂和分散剂的原料进行湿法球磨混合,经喷雾造粒处理,得到碳化硅造粒粉;S2、将碳化硅造粒粉装入模具中,施加压力进行压制成型,得到陶瓷生坯;S3、将陶瓷生坯置于电场辅助烧结装置中,在真空或惰性气氛下,继续施加压力,首先升温至400~800℃使造粒粉表面的有机粘结剂裂解形成碳层,以在陶瓷生坯内部形成均匀的导电网络,然后施加直流电场,并使电流仅通过陶瓷生坯,继续升温至1500~1700℃进行烧结,得到碳化硅陶瓷材料。本发明可显著降低导电网络导通温度和烧结温度,获得具有优异的力、电等综合性能的碳化硅陶瓷。