锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度且高对比度，且LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐、含有该锍盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种锍盐，以下式(1)表示。式中，Z为不具有聚合性基团的氟烷磺酸阴离子。