一种PVD硬质涂层磁控溅射靶材、及其制备方法和应用

本发明公开了一种PVD硬质涂层磁控溅射靶材及其制备方法和应用，制备方法包括：（1）提供基体并进行喷砂清理；（2）在基体表面由内向外依次沉积形成打底层、过渡层、功能层和表层；所述过渡层为W‑Si复合层，其中钨含量为70wt%‑99wt%，硅含量为1wt%‑30wt%；功能层W含量≥90wt%；表层为WSi富集层；沉积前将钨粉和硅粉分别筛选至50目‑400目，再混合6‑8小时后送入等离子焰流中进行喷涂沉积；（3）沉积完成后进行真空热处理。本发明通过特定粒径筛选与混合工艺，克服了W‑Si体系密度差大、熔点差异大的技术难题，所得靶材成分均匀、表面光洁度高、结合强度高，适用于刀具、模具等硬质涂层的磁控溅射制备。