CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

一种卷对卷连续多源真空薄膜制造系统及其控制方法

발명알 수 없음
5조회수
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

李刚; 王开鹰; 张华勇

출원일

Jul 23, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

C23C 14/56 (2006.01)C23C 14/54 (2006.01)

本发明公开了一种卷对卷连续多源真空薄膜制造系统及其控制方法,属于真空薄膜制备与卷对卷连续制造技术领域,系统包括卷对卷输送系统、多腔体真空系统、多源沉积系统、气氛与真空控制系统及控制系统;多源沉积系统设于沉积腔内,包含至少两类不同的沉积源,可独立或协同运行,支持多种沉积模式。本发明通过协调控制基材输送、沉积参数与腔室气氛,实现多材料、多层、梯度及复合功能薄膜的连续化制备。系统采用模块化设计,按需配置在线检测、后处理等扩展模块,适配不同工艺需求。本发明适用于但不限于新能源电池、活泼金属薄膜、多层复合薄膜、梯度薄膜、柔性电子及功能薄膜的连续化制备,具有工艺适配范围广、扩展能力强、运行稳定性好的优势。