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기록
碳化硅晶体生长的自适应功率控制方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C30B 23/00 (2006.01)C30B 29/36 (2006.01)
一种碳化硅晶体生长的自适应功率控制方法,先依据实际生长工艺,提前预设目标温度、参考热效率、偏差阈值与下限阈值等基础参数。系统以固定频率采集测温区域温度、设备输入功率、工作频率及工作电流数据,筛除异常温度数据后合成有效生长温度,再计算实时温升速率,依托各项核心参数构建完整系统状态向量。通过温升速率与输入功率求解等效热效率,对比标准参考值计算偏差,依照阈值规则智能修正输出功率。将更新后的功率参数输送至电源柜,同时按需优化工作频率,筛选最优工作参数,全程循环调控,直至晶体生长工序彻底结束。该方法解决了现有技术因热耦合动态变化导致的功率失配问题,显著提高温场稳定性与碳化硅晶体质量。