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一种半导体器件模型残差鞅诊断方法及系统

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§ Ⅰ

개요

발명자

孙华斌; 于志浩; 万相; 朱力; 罗中中

출원일

Jul 22, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

G01R 31/26 (2020.01)G06F 30/367 (2020.01)G06F 30/27 (2020.01)

本发明公开了一种半导体器件模型残差鞅诊断方法及系统。该方法通过半导体参数测试仪、探针台或器件测试设备获取真实器件电流‑电压曲线,调用待评估模型生成同网格曲线;基于训练数据集确定预处理参数并应用于验证数据集,形成有符号残差;按偏置、几何、批次、扫描方向或测试顺序建立有序残差序列,估计条件漂移,计算RMS、MRR、局部MRR和累积残差边界比;据此生成模型修正建议、版本准入或退回标识及验证报告。本发明可识别RMS或普通训练‑验证误差难以揭示的结构化残差和过拟合风险。