接近度传感器设备、系统以及制造所述设备的方法

本申请公开了接近度传感器设备和系统。一种接近度传感器设备（101），包括：第一线圈布置，包括在至少一个第一RDL层中实现的第一激励线圈（TX1）和第一接收器线圈（RX1）；第二线圈布置，包括在至少一个第二RDL层中实现的第二激励线圈（TX2）和第二接收器线圈（RX2），第二RDL层与第一RDL层间隔至少200 μm；半导体器件（10），布置在第一RDL层与第二RDL层之间的空间中，并且包括用于激励该激励线圈的激励电路（213；313）和用于接收一个或多个信号的接收器电路（214；314）；以及评估电路（215；315），用于确定导电目标（102）的位置，导电目标（102）能朝向和远离接近度传感器设备移动。一种包括所述设备和所述可移动目标的接近度传感器系统。一种制造所述接近度传感器设备的方法。