一种改善光致取向材料附着性能及消除偏振体全息波导杂散光的基底预处理方法及预处理基底与偏振体全息光波导器件

本申请涉及光学显示器件制备领域，具体公开了一种改善光致取向材料附着性能及消除偏振体全息波导杂散光的基底预处理方法及预处理基底与偏振体全息光波导器件。所述基底预处理方法包括以下步骤：S1.基底清洗步骤；S2.复合活化步骤；S3.偶联涂布步骤；S4.阶梯固化步骤。本申请通过低损活化、环氧基偶联界面构建以及精准温控的三段阶梯式固化的协同配合，有效克服了微孔、界面应力集中及分子取向畸变等底层物理缺陷，使得最终器件兼具0级抗老化附着力与优异的光学成像品质，完全满足偏振体全息波导的量产标准。