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一种KrF光刻胶组合物及其制备方法和应用
발명알 수 없음
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
G03F 7/004 (2006.01)G03F 7/20 (2006.01)
本申请涉及一种KrF光刻胶组合物及其制备方法和应用，涉及半导体光刻材料技术领域，制备原料包括以下质量百分含量的组分：成膜树脂8‑15%、非离子型光致产酸剂0.2‑0.8%、猝灭剂0.01‑0.1%、表面活性剂0.005‑0.05%、溶剂 余量补足至100%。本申请制备的KrF光刻胶组合物在厚膜条件下实现了酸扩散的精准调控，提升了分辨率，降低了边缘粗糙度，同时保持了良好的灵敏度。
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