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一种氟改性光刻胶及其制备方法和Nano-LED器件的制备方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
G03F 7/004 (2006.01)H10K 71/00 (2023.01)H10K 50/115 (2023.01)G03F 7/027 (2006.01)
本发明公开了一种氟改性光刻胶及其制备方法和Nano‑LED 器件的制备方法，该氟改性光刻胶，其各组分的含量包括：酚醛环氧丙烯酸酯40–50 wt%；聚二季戊四醇五丙烯酸酯10–20 wt%；氟改性（甲基）丙烯酸烷基酯5‑15 wt%；光刻胶溶剂15‑35 wt%；自由基引发剂0.5‑2 wt%；双光子敏化剂20–150 μM；三乙胺0.1–1 wt%；抗自聚剂50–200 ppm。该光刻胶能够在有机载流子传输层上实现“正交图案化”的氟改性。