一种光刻胶组合物及其应用

本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其应用。本发明提供的光刻胶组合物，通过特定组成添加剂的使用，可改变体系的溶解度参数，使混合体系的整体溶解度参数落在各组分相容窗口内，从而使光刻胶主树脂、含氟树脂形成均一相，减少光刻胶在成膜时的颗粒，继而可以有效在193nm浸没式光刻过程中改善缺陷情况。具体地，本发明中的添加剂具有高极性的特点，可以提高光刻胶主树脂与其他组分的相容性，从而改善光刻胶在成膜时的颗粒缺陷情况。