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一种基于残差指纹的企业定制化大模型版权验证方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

张方芳; 张嘉伟; 马建峰

출원일

Jul 8, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

G06F 21/16 (2013.01)G06F 21/10 (2013.01)G06F 18/22 (2023.01)

本发明公开了一种基于残差指纹的企业定制化大模型版权验证方法,使企业无需在模型训练阶段向企业私有模型注入后门或水印,也无需依赖模型输出文本水印,而是利用企业私有模型的中间层表征生成稳定、可存证、可统计验证的定制化残差表征核指纹;同时通过基座模型对照消除公开基座模型带来的背景相似性,使确权结论更聚焦于企业私有微调所形成的内部表征变化,提升了确权验证结果的准确性。

§ Ⅵ

특허 도면

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