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无卤高密度互连多层电路板的制备方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H05K 3/46 (2006.01)
本发明公开了无卤高密度互连多层电路板的制备方法,涉及高密度互连多层电路板制造技术领域,针对材料批次和目标积层层级,将生产板关联于包括彼此物理独立的成孔平行子片、去钻污平行子片和金属化填孔平行子片的同批见证片组;依次建立成孔窗口、去钻污窗口及金属化及填孔窗口,并执行成孔门控、界面门控和金属化填孔门控;后一级平行子片按已通过的上游工艺窗口重建累积前序状态;各门控通过后,生产板才进入对应下游工序;上游工艺窗口变化时,依赖其形成的下游窗口及门控证据停止用于放行;破坏性检测后的平行子片封存且不再流转;可在异常界面被后续加工覆盖前阻断生产板流转,并保留分阶段可复核证据。