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기록
屏蔽膜及其制备方法、制备设备
발명알 수 없음
14조회수
13청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
王磊; 刘浩; 谢贵; 钱镇洲; 佘蓉
출원일
Aug 14, 2026
공개일
Oct 16, 2026
IPC 분류
H05K 9/00 (2006.01)C23C 14/35 (2006.01)C23C 14/04 (2006.01)
本申请实施例公开了一种屏蔽膜及其制备方法、制备设备。屏蔽膜通过在基材上沉积EMI屏蔽层,并在EMI屏蔽层远离基材的一侧沉积绝缘防腐层,从而可以有效地阻隔水汽、腐蚀性气体及离子的渗透,抑制了金属屏蔽层的氧化与硫化反应,实现了屏蔽膜能够在复杂工况下长期稳定的电磁屏蔽效果,尤其可以避免柔性屏蔽膜因金属层腐蚀导致的屏蔽失效风险,提升了移动终端在高频通信环境下的信号完整性与运行可靠性。