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半导体存储装置

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§ Ⅰ

개요

발명자

井口直; 福田夏树

출원일

Mar 7, 2022

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10B 41/30 (2023.01)H10B 43/30 (2023.01)

实施方式提供容易高集成化的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:基板,具备在第1方向上排列的存储区域及接合区域;及多个存储构造,在与第1方向交叉的第2方向上排列。多个存储构造具备:多个导电层,在与基板的表面交叉的第3方向上排列,跨存储区域及接合区域地在第1方向上延伸;及多个接触电极,设置于接合区域,在第3方向上延伸,具备由多个导电层的一部分包围的外周面,分别连接于多个导电层中的任一者。接合区域具备在第1方向上排列的第1区域和第2区域。第1区域包括第1接触电极及第2接触电极,第2区域包括第3接触电极。第3接触电极的第3方向的长度比第1接触电极的第3方向的长度长且比第2接触电极的第3方向的长度短。