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降低NORD Flash存储单元控制栅极与字线电阻的制造方法及器件

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§ Ⅰ

개요

발명자

张磊

출원일

Jun 1, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10B 43/35 (2023.01)H10B 43/40 (2023.01)H10B 41/35 (2023.01)H10B 41/41 (2023.01)

本发明公开了一种降低NORD Flash存储单元控制栅极与字线电阻的制造方法,包括:1)在存储单元与周边逻辑区旋涂底部抗反射层,利用抗反射层流动性填充存储单元间隔凹坑,使存储单顶端抗反射层表面平整;2)经N型重掺杂注入光刻与显影后,对抗反射层进行部分刻蚀,使存储单元顶端裸露,存储单元凹坑处保留抗反射层保护;3)采用干法刻蚀刻蚀存储单元顶端氧化物,利用偏移溅射刻蚀的阴影效应保护控制栅极尖角处氧化物;4)干法刻蚀去除剩余抗反射层,执行N型重掺杂注入注入工艺;5)控制栅极与字线顶端氧化物完全去除,形成完整硅化物。本发明能彻底去除控制栅极与字线顶端氧化物,形成完整Salicide,降低控制栅极与字线电阻,提升读写速度。

§ Ⅵ

특허 도면

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