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기록
一种电阻单元、电阻测试系统以及方法
발명알 수 없음
15청구항 · 6 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10D 1/47 (2025.01)G01R 27/02 (2006.01)H10P 74/00 (2026.01)H10P 74/20 (2026.01)
本申请提供了一种电阻测试单元、系统以及方法,涉及半导体技术领域。测试单元包括:叠层结构;介质层;介质层形成在叠层结构上;两个测试通孔;两个测试通孔贯穿介质层,且与叠层结构相接触,用于测试叠层结构的电阻;沿垂直于叠层结构厚度的方向,叠层结构在两个测试通孔之间的区域具有预设层数;其中,预设层数小于或等于叠层结构中膜的层数。本申请能够测量叠层结构中膜层与膜层之间的接触电阻。
§ Ⅵ
특허 도면
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