驱动基板的制备方法、驱动基板及显示面板

本申请属于显示技术领域，具体涉及驱动基板的制备方法、驱动基板及显示面板。制备方法包括：在衬底上形成栅极和栅绝缘层；在栅绝缘层上形成富铟的第一氧化物半导体层、含有掺杂元素且浓度沿背离第一氧化物半导体层方向递增的第二氧化物半导体层以及富镓的第三氧化物半导体层，构成有源层；在有源层上形成图形化的刻蚀阻挡层，使其覆盖待形成沟道区的区域并暴露待形成源漏极的区域；沉积源漏金属层后，采用含缺陷修复成分的湿法刻蚀液刻蚀形成源极和漏极，刻蚀过程中刻蚀阻挡层保护下方有源层，修复成分对暴露的有源层进行原位缺陷修复；最后通过退火处理降低接触电阻。本申请可提升迁移率、改善短波光稳定性并降低接触电阻，且不增加光罩数量。