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一种红外焦平面机械互锁式凸点结构及其制备方法
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§ Ⅰ
개요
발명자
朱宪亮; 宝鹏飞; 刘大福; 田冬冬; 陆劲速; 邵秀梅; 李雪
출원일
Jul 30, 2026
공개일
Oct 16, 2026
IPC 분류
H10F 39/00 (2025.01)H10F 39/12 (2025.01)
本发明公开了一种红外焦平面机械互锁式凸点结构及其制备方法。该方法根据硅读出电路芯片上的凸点形状,在光敏芯片端设计并制备机械互锁式凸点结构。在倒焊互连过程中,硅读出电路端凸点插入到光敏芯片端的机械互锁式凸点结构中,形成高精度机械嵌套互锁,用于限制倒焊过程中产生的随机偏移,提高焦平面有效像元率。本发明不受焦平面规模和像元尺寸限制,尤其适用于对倒焊偏差容忍度低的小像元焦平面阵列。
§ Ⅵ
특허 도면
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