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一种红外焦平面机械互锁式凸点结构及其制备方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

朱宪亮; 宝鹏飞; 刘大福; 田冬冬; 陆劲速; 邵秀梅; 李雪

출원일

Jul 30, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10F 39/00 (2025.01)H10F 39/12 (2025.01)

本发明公开了一种红外焦平面机械互锁式凸点结构及其制备方法。该方法根据硅读出电路芯片上的凸点形状,在光敏芯片端设计并制备机械互锁式凸点结构。在倒焊互连过程中,硅读出电路端凸点插入到光敏芯片端的机械互锁式凸点结构中,形成高精度机械嵌套互锁,用于限制倒焊过程中产生的随机偏移,提高焦平面有效像元率。本发明不受焦平面规模和像元尺寸限制,尤其适用于对倒焊偏差容忍度低的小像元焦平面阵列。

§ Ⅵ

특허 도면

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