一种基于深度反馈的干法刻蚀控制方法及设备

本发明公开了一种基于深度反馈的干法刻蚀控制方法及设备，通过构建干法刻蚀过程的状态空间模型并引入扩展卡尔曼滤波，将深度测量信号与光学发射光谱信号融合，在刻蚀过程中实时输出刻蚀深度和刻蚀速率的最优估计值，并基于该最优估计值动态计算第一深度阈值和第二深度阈值，以实时深度阈值驱动主刻蚀阶段、过刻蚀阶段和电荷释放阶段之间的精准切换，同时在各阶段分别对电磁线圈阵列和可动屏蔽板进行差异化配置，使不同阶段对应不同的磁场分布与屏蔽板开度，有效解决了高深宽比刻蚀过程中因电荷积累与阶段需求矛盾导致刻蚀成功率低的技术问题，提高了高深宽比结构的刻蚀成功率。