一种基于位置调控的双轨同步方法

本发明属于硅片传输设备技术领域，公开了一种基于位置调控的双轨同步方法。本发明提供的基于位置调控的双轨同步方法通过独立调控两条硅片传输轨道的运行速度实现同步调节，无需停止任何一条硅片传输轨道的运行，传输过程可保持连续进行，从而能够有效避免传输流程的中断，有助于提升整体生产效率。此外，同步调节过程全部由自动化系统执行，全程无需人工介入，能够有效降低人工操作带来的主观位置偏差，有助于使两条硅片传输轨道上对应硅片的齐平精度维持在预设范围内，为后续的检测、加工等工序提供相对一致的硅片位置基准，进而有助于提升产品良率。