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吸附装置以及吸附装置的制造方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

上田利幸; 松本丰

출원일

Mar 10, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10P 72/72 (2026.01)H10P 72/78 (2026.01)H10P 72/00 (2026.01)B23P 15/00 (2006.01)

本发明提供一种抑制温度不均的产生、并构成为可进行温度调整的吸附装置以及吸附装置的制造方法。提供一种吸附装置(1),具备:吸附单元(3),具有构成为可吸附工件(W)的吸盘;基体(2),包含设置有吸附单元(3)的吸附面(21)以及作为吸附面(21)的相反侧的面的非吸附面(23);温控配管(4),配置在非吸附面(23)且构成为温控介质可流通;以及热扩散层(5),热传导率为60 W/m·K以上且表观密度为10 g/cm以下,并且被覆温控配管(4)。