CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

掩模用组合物以及刻蚀加工用掩模

발명알 수 없음
9청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

加藤昌央; 白鸟仁朗

출원일

Mar 27, 2025

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10P 50/00 (2026.01)

提供一种关于能够形成膜更厚的掩模的掩模用组合物的技术。本发明的一个方式为掩模用组合物。该掩模用组合物具有金属氢氧化物和溶剂。所述金属氢氧化物分散或溶解于所述溶剂。