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기록
掩模用组合物以及刻蚀加工用掩模
발명알 수 없음
9청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10P 50/00 (2026.01)
提供一种关于能够形成膜更厚的掩模的掩模用组合物的技术。本发明的一个方式为掩模用组合物。该掩模用组合物具有金属氢氧化物和溶剂。所述金属氢氧化物分散或溶解于所述溶剂。
IPC 분류
提供一种关于能够形成膜更厚的掩模的掩模用组合物的技术。本发明的一个方式为掩模用组合物。该掩模用组合物具有金属氢氧化物和溶剂。所述金属氢氧化物分散或溶解于所述溶剂。