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基站、清洁系统和控制方法

발명알 수 없음
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12청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

李郅俣; 舒奕钧; 黄龙润; 黄谱; 邓超毅; 程福萍; 吴汶轩; 叶登耀; 于浩; 张文浩

출원일

Aug 12, 2026

공개일

Oct 20, 2026

IPC 분류

A47L 11/40 (2006.01)C02F 1/30 (2023.01)

本申请提供一种基站、清洁系统和控制方法,涉及清洁技术领域,包括基座、水箱和第一除臭装置,水箱安装于基座,水箱至少包括脏污腔,脏污腔用于盛装清洁设备产生的脏污。脏污腔包括固体容纳腔和液体容纳腔,固体容纳腔用于容纳固态脏污,液体容纳腔用于容纳液态脏污。第一除臭装置与固体容纳腔相连通,第一除臭装置用于对固态脏污除臭。本申请实施例提供的基站,可以有效延长脏污整体的可存放时间,无需用户频繁对脏污腔内的脏污进行清理,能够有效减轻用户的家务负担,从而有效提升用户体验。