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기록
一种研磨控制方法及研磨系统
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§ Ⅰ
개요
발명자
刘伟; 徐嘉文; 杨欣; 姜又强; 郭逸潘; 曹银英; 姚靓; 王礼平
출원일
Jul 3, 2026
공개일
Oct 20, 2026
IPC 분류
B02C 17/10 (2006.01)B02C 17/14 (2006.01)B02C 17/18 (2006.01)B02C 25/00 (2006.01)
本发明公开了一种研磨控制方法,包括步骤:S1、控制模块使研磨钵转送装置将研磨钵转送至研磨机上;S2、控制模块使研磨钵压紧装置压紧研磨钵;S3、控制模块使研磨机启动运转,同时实时监测研磨机的运行电流数据,并计算研磨机在连续或者间隔的N个设定时间T内每个设定时间T内运行电流数据的平均值I;S4、控制模块将I与控制模块内已有的安全电流阈值比较,判断研磨钵的位置是否正确,正确继续研磨工作,不正确,进行S5;控制模块研磨钵转送装置调整研磨钵的位置,再进行S2至S4。还公开了一种研磨系统。本研磨控制方法及研磨系统具有提高自动化程度,具有对研磨位置状态的实时监测与预警能力,及时调整位置偏差,增强运行安全性等优点。