一种多模监控硅片CMP抛光液含量的自动系统

本发明公开了一种多模监控硅片CMP抛光液含量的自动系统，包括监控模块、图像采集与处理单元及自动补液控制模块。监控模块含视觉监测单元和电导率监测单元，分别采集抛光液图像与电导率数据；图像采集与处理单元提取污染指数；自动补液控制模块基于污染指数和电导率数据决策补液，通过执行机构补充新液并排出等量旧液。本发明通过双模态协同监测与闭环调控，实现抛光液状态智能维持，延长更换周期至72小时，提升工艺稳定性66.7%，稼动率提升2.3倍，适用于半导体CMP加工。