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一种窄带隙金属有机框架及其制备方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C08G 83/00 (2006.01)
本发明公开了一种窄带隙金属有机框架及其制备方法,包括如下步骤:配置MOFs前驱体混合溶液;将所述混合溶液进行辐照处理,利用电离辐射的活化和刻蚀协同效应,在合成MOFs的同时,内部原位构建缺陷结构,得到窄带隙金属有机框架。本发明对MOFs前驱体材料进行辐照处理,协同利用辐射的活化与刻蚀双重效应,在不破坏MOFs本征结构的前提下,精准引入缺陷并调控电子结构,实现室温常压下高效合成窄带隙MOFs;操作简单、周期短、能耗低、产率高,且无需高温高压,安全风险大幅降低;具有良好的普适性,可实现连续化生产,适合规模化推广,具备明确的工业应用前景。
§ Ⅵ
특허 도면
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