一种具有公自转和紧喷淋结构的MOCVD设备

本发明涉及MOCVD设备技术领域，公开了一种具有公自转和紧喷淋结构的MOCVD设备，包括真空腔室，其内部设置有容纳腔，喷淋板，其设置于容纳腔的内部，所述喷淋板的外表面均匀开设有多个喷孔，公自转托盘，其上表面设置有公转盘和自转盘。本发明通过板体能够沿着真空腔室的中轴线方向移动，当其靠近喷淋板方向移动时，圆柱体能够插入到喷孔的内部，从而将喷孔密封住，避免真空腔室容纳腔内部的反应气再次进入到喷孔的内部，导致气体生成的固体金属或氮化物沉积在喷淋板微孔内壁上，确保了喷孔使用时的孔径一致，使得气体流动均匀，保证后续外延片的厚度和组分一致性。