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一种原位激光调控动态电解液膜界面状态的电化学沉积装置及方法

발명알 수 없음
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

廉中旭; 杨金达; 任万飞; 邹兆强; 张家铭; 许金凯

출원일

Aug 10, 2026

공개일

Oct 20, 2026

IPC 분류

C25D 5/00 (2006.01)C25D 5/02 (2006.01)C25D 5/08 (2006.01)C25D 17/00 (2006.01)C25D 21/12 (2006.01)

本发明公开了一种原位激光调控动态电解液膜界面状态的电化学沉积装置及方法,属于激光辅助电化学沉积及微纳制造装备技术领域。本发明首先提供了一种原位激光调控动态电解液膜界面状态的电化学沉积方法,该方法包括:在工作电极表面形成连续流动的动态电解液膜,并使纳秒激光原位作用于动态电解液膜与工作电极表面的耦合区域,从而调控液/气界面形貌、局部温度场、离子传输状态和沉积形核行为;本发明还提供了上述电化学沉积方法所采用的一种电化学沉积装置;本发明采用动态电解液膜代替传统静态浸没式电解液,有利于增强局部离子传输和反应产物排出,降低浓差极化、气泡滞留和局部热积累对沉积过程的影响,提高定域电化学沉积稳定性和可控性。

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