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与光学各向异性相对应的基于二阶张量光学响应量的应力张量恢复装置及方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

朴龙根; 李主献

출원일

Apr 8, 2026

공개일

Oct 20, 2026

IPC 분류

G01L 5/00 (2006.01)G01L 1/24 (2006.01)G01N 21/17 (2006.01)G01N 21/21 (2006.01)G01N 21/84 (2006.01)G01N 21/01 (2006.01)

本发明涉及一种与光学各向异性相对应的基于二阶张量光学响应量三维介电张量测定的应力张量恢复装置及方法。一实施例的残余应力张量恢复方法可包括如下步骤:对于所述光学各向异性张量场,通过在各个空间位置执行固有值分解来计算主轴方向及主成分;将所述主成分应用到基于光弹性理论的光学各向异性–变形率关系来在各个空间位置计算总变形率张量;以及通过以基于线性弹性理论的支配方程作为基础的逆运算,将所述总变形率张量分离成弹性变形率成分和固有变形率成分,根据所述弹性变形率成分计算残余应力张量。

§ Ⅵ

특허 도면

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