基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备

本发明涉及蚀刻控制技术领域，公开了一种基于蚀刻波形数据的进气调节方法、装置及蚀刻设备，该方法包括：在通过蚀刻设备对晶圆进行蚀刻的过程中，采集晶圆的每个监测区域的蚀刻反应特征光谱，并根据所有监测区域的蚀刻反应特征光谱，生成所有监测区域的蚀刻波形数据；根据所有监测区域的蚀刻波形数据，确定所有监测区域的蚀刻波形偏差率，以对蚀刻设备进行进气调节操作。可见，实施本发明能够通过各监测区域的蚀刻波形数据，确定各监测区域的蚀刻波形偏差率，以实现蚀刻设备的自适应进气调节过程，这样，提高了蚀刻设备的进气调节可靠性和精准性，从而有利于提高晶圆蚀刻均匀性。