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기록
用于通过激光等离子体加速来生成X射线的系统
발명알 수 없음
6청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
출원인
塔莱斯公司; 巴黎综合理工学院; 国立科学研究中心; 国立高等先进技术学院
발명자
C·托里; O·科诺年科; E·莫雷尔; J·惠勒; H·克拉夫特; J-P·丹尼斯; P·吉罗; X·Q·丁
출원일
Apr 10, 2026
공개일
Oct 20, 2026
IPC 분류
H05G 2/00 (2006.01)
一种用于生成X射线的系统，包括：激光束(2)的源(1)，所述激光束聚焦在气态靶(6)上，并且通过激光等离子体加速来生成电子束(7)和激光束(8)；固体轫致辐射靶(9)，被配置为经由其暴露面暴露于离开所述气态靶(6)的所述激光束(8)和所述电子束(7)，并生成X射线；其中，所述固体靶(9)包括固体保护层(10)，所述固体保护层被放置在所述暴露面上，所述固体保护层的密度低于第一阈值(S1)，所述固体保护层的熔点高于第二阈值(S2)，所述固体保护层的厚度低于第三阈值(S3)，并且所述固体保护层的抛光暴露表面的由粗糙度测试仪测量的粗糙度低于第四阈值(S4)，所述第一阈值(S1)为7g/cm，所述第二阈值(S2)为1000℃，所述第三阈值(S3)为2mm，并且所述第四阈值(S4)为10μm。
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