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三维存储器及其制作方法、存储器系统
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10B 12/00 (2023.01)
本申请提供了一种三维存储器及其制作方法、存储器系统。三维存储器包括:第一半导体结构,第一半导体结构包括外围电路;第二半导体结构,第二半导体结构位于第一半导体结构沿第一方向的一侧,第二半导体结构包括第一存储阵列,第二半导体结构与第一半导体结构耦接;第三半导体结构,沿第一方向,第三半导体结构位于第一半导体结构远离第二半导体结构的一侧,第三半导体结构包括第二存储阵列,第三半导体结构与第一半导体结构耦接。