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半导体器件、布局和形成存储器件的方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10B 20/25 (2023.01)H10W 20/00 (2026.01)H10W 20/43 (2026.01)H10W 20/49 (2026.01)H10D 89/10 (2025.01)
本公开的实施例涉及一种半导体器件、布局和形成存储器件的方法。本公开的实施例涉及包含双面位线与正面字线的一次性可程序化(OTP)存储器件。在某些实施例中,位线可配置于第一正面互连层(M0)与第一背面互连层(BM0)之上。在某些实施例中,存储器件包含配置于一或多个背面互连层的背面电源轨。在某些实施例中,第一背面互连层(BM0)内的背面位线与背面电源轨与第一正面互连层(M0)内字线的布局配置呈平行排列。此双面位线布局可降低局部位线电阻。位线/电源线与字线的平行布局,使存储器件得以实现读取窗口并提升效能。