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氧化物半导体器件以及包含该器件的半导体存储器件
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10D 30/60 (2025.01)H10D 62/80 (2025.01)H10B 12/00 (2023.01)H10D 62/17 (2025.01)
一种氧化物半导体器件可包含有源区、栅极、源电极和漏电极、以及退化图案。有源区可包含氧化物半导体材料。栅极可设置在有源区中。源电极和漏电极可包含金属材料。源电极可布置在栅极的一侧,并且漏电极可布置在栅极的另一侧。至少一个退化图案可介于有源区与源电极之间,或介于有源区与漏电极之间,或两者皆有,退化图案包含富含金属的氧化物。
§ Ⅵ
특허 도면
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