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光谱成像器件及其制备方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

文龙; 陈沁; 陀子望

출원일

Apr 10, 2025

공개일

Oct 20, 2026

IPC 분류

H10F 39/00 (2025.01)H10F 39/18 (2025.01)G02B 5/28 (2006.01)G03F 7/00 (2006.01)H04N 25/76 (2023.01)H04N 25/13 (2023.01)G01J 3/28 (2006.01)

本发明公开了一种光谱成像器件及其制备方法。光谱成像器件包括:图像传感器和滤波器,所述滤波器设置在所述图像传感器上,所述滤波器的厚度自自身中心区域向四周区域渐变减小。本发明通过在CIS芯片上制作上述渐变法布里-帕罗微腔滤波器阵列,由于光刻胶回流结构在二维空间上的厚度连续变化使得各区域干涉模式不同,相干干涉导致的透射光增强波长和级次也不相同,最终使得渐变光学腔下方CMOS传感器各个像素具备不同的光谱响应度。